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플라즈마 CVD 장치
600mm 기판에 대응한 대형 플라즈마 CVD 장치입니다.
치밀한 실리콘 산화막의 형성이 가능하여 박막 커패시터의 제작에 적합합니다.
사양
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600mm 기판에 대응한 대형 플라즈마 CVD 장치입니다.
치밀한 실리콘 산화막의 형성이 가능하여 박막 커패시터의 제작에 적합합니다.