SHINKO SEIKI 박막 형성 장치 > 멀티 챔버 패터링 장치
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Si 웨이퍼·유리·세라믹스 등 기판·용도를 불문하고 유연하게 대응 가능한 최신형 스퍼터링 장치입니다. .
1991년에 발표된 R&D용 멀티챔버스 패터링 장치는 적층된 소프트와 유연한 하드 대응에 의해, 첨단 디바이스의 개발·시작으로부터 생산까지를 커버하는 본격형 클러스터 툴로 진화했습니다.
신항정기의 박막 기술의 결정 「STM 시리즈」는 반도체·FPD·MEMS·첨단 표면 실장 등의 각 분야에서 활약하고 있습니다.
【특징】
・ 웨이퍼 기판(Φ76.2~Φ203.2mm)은 물론 최대 203mm 대각의 유리 혹은 세라믹판의 처리도 가능합니다.
・미래 프로세스에의 기초 연구 혹은 다채로운 프로토타입 생산에 대응할 수 있도록 충실한 각종 선택 기능을 갖추고 있습니다.
・신뢰성을 중시해 구성 부품을 유닛화하고 있습니다.
・각실 독립 메인터넌스가 가능해 메인터넌스의 간이성과 맞추어, 메인터넌스 시간과 상승 시간의 단축을 실현했습니다.
・공간 절약화와 스루 월 타입에 의해, 하이 레벨에서의 클린 룸 사용에 대응하고 있습니다.
장비 사양 (STM5412 STM5213 STM4415)
기본 챔버 구성
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