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| 제품명 |
Cleanstream > Cleanstream 1100 |
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SOLID STATE |
| 간략설명 |
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Cleanstream |
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Cleanstream 열전 열교환 원격 냉각기를 대체 "온 - 보드"온도 제어 장치이다. 직접 습식 벤치 애플리케이션에서 공정 유체를 냉각한다. 이 ISO 14001 가능 기술은 모든 냉각 화학 물질을 제거하고 고순도 또는 부식성 유체의 정확한 오염이없는 제어를 제공하면서 실질적으로 전력 소비를 줄일 수 있습니다. 프레온 기반 냉각기에 비해 극적인 에너지 절감. |
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Cleanstream 550-H1500 |
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Cleanstream의 800C |
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넓은 범위의 온도 제어, 저전력, 완벽한 R & D 화학 욕조에 대한
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근처 - 주위 온도 제어는 HF 욕조 및 니어 주변 전기 도금 욕조에 적합
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Cleanstream 1100 |
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5 ~ 30 갤런 반도체 화학 탱크에 대한 넓은 범위의 온도 제어
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Cleanstream H3000 |
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액체 - 액체 인라인 전기 도금 욕조 포함하여 니켈 및 팔라듐에 적합 높은 온도 욕조를위한 히터 (40 ~ 90 ° C에서) |
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Cleanstream 모델 비교 |
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Cleanstream 열전 열 교환기 |
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냉각기 교체 온보드 고순도 또는 정밀 부식성 유체의 온도를 제어 할 수 있습니다. Dramatic energy savings compared to freon-based chiller. 프레온 기반 냉각기에 비해 극적인 에너지 절감. |
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모델 |
Cleanstream 800C |
Cleanstream 1100 |
Cleanstream 550/H1500 |
Cleanstream H3000 |
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전형적인 신청 |
반도체 젖은 벤치 목욕 제어 |
반도체 젖은 벤치 목욕 제어 |
반도체 젖은 벤치 목욕 제어 |
반도체 젖은 벤치 목욕 제어 |
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이머전 리소그래피 |
이머전 리소그래피 |
이머전 리소그래피 |
이머전 리소그래피 |
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전기 도금 |
전기 도금 |
전기 도금 |
전기 도금 |
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반도체 구리 증착 |
반도체 구리 증착 |
반도체 구리 증착 |
반도체 구리 증착 |
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구성 |
화학적 욕 온도 제어기 |
화학적 욕 온도 제어기 |
광범위한 화학적 욕 온도 제어기 |
화학 화장실에 대한 인라인 히터 |
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대등 한 프레온 기반 냉각기 |
2700 W Freon chiller and 2000 W heater 2700 W 프레온 냉각 및 2,000 W 히터 |
2700 W Freon chiller and 2000 W heater 2700 W 프레온 냉각 및 2,000 W 히터 |
1350 W Freon chiller and 1000 W heater 1350 W 프레온 냉각 및 1,000 W 히터 |
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작동 범위 |
5 ~ 40 ° C (1,100 W 모델)에
10 ~ 35 ° C (800 W 모델)에 |
5 ~ 40 ° C (1,100 W 모델)에
10 ~ 35 ° C (800 W 모델)에 |
10 to 90 °C 10-90 ° C |
40-90 ° C |
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냉각 용량 |
20 ° C의 설비 물을 20 ° C에서 800 와트 |
20 ° C의 설비 물을 25 ° C @ 1,100 와트 |
20 ° C의 설비 물을 25 ° C에서 550 와트 |
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난방 용량 |
20 ° C @ 1,050 와트 |
25 ° C @ 1,500 와트 |
1500 와트 |
3000 와트 |
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크기 (L x 폭 x 높이) |
16 "X 9.75"X 3.1 "(41 X 25 X 8cm) |
16 "X 9.75"X 3.1 "(41 X 25 X 8cm) |
16 "X 9.75"X 3.1 "(41 X 25 X 8cm) |
16 "X 9.75"X 3.1 "(41 X 25 X 8cm) |
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안정성 / 반복 |
<± 0.05 °C |
<± 0.05 °C |
<± 0.05 °C |
<± 0.2 °C |
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프로세스 채널 |
1 |
1 |
1 |
1 |
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Cleanstream 1100 |
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온보드 온도 제어 유닛; 원격 냉각기를 대체하는 스위치 백 전원 공급 장치 또는 전원 공급 장치 / 온도 컨트롤러와 함께 작동합니다. |
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화학 목욕 온도 제어 시스템 |
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저 유량 번 통과 화학 온도 제어 |
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젖은 벤치에서 공정 유체의 직접 냉각 |
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반도체 화학 탱크 |
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5~30갤런 탱크 (1100 Cleanstream) |
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10-100갤런 탱크 (Cleanstream의 1100x2) |
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▶ 성능 |
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Cleanstream 가족 열교환 기에서 샘플링에 대한 우리의 공장에서의 결정에 따라 성능 곡선. T시험 조건 : 집 측 20 ºC 여과 증류수, 공정 측 탈 이온수. 당신의 그물 냉각 / 가열 젖은 벤치 디자인에 따라 달라집니다. |
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25 ~ 20 ºC에 물을 탈 20리터를 냉각 Cleanstream 1100을 사용하여 공장에서의 결정에 따라 테스트 데이터. |
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▶ 사양 |
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5 ° C ~ 40 ° C |
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주위 온도 : |
10 ° C ~ 40 ° C 비 응결 |
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안정성 / 반복 : |
(일반 구성) 0.05 ° C에서 ± |
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냉각 용량 : |
20 ° C의 설비 물을 25 ° C @ 1,100 와트 |
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난방 용량 : |
25 ° C @ 1,500 와트 |
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공정 유체 : |
50 % HF 용액, 유기 용매, 다른 PFA 테플론 호환 유체, 전기 도금 욕조 최대 |
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시설 물 : |
여과 처리 시설 냉각수 |
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유속 : |
2-8 LPM (0.5 GPM) 또는 프로세스 플레이트에서 15-38 LPM (4-10 GPM)
방열 플레이트에서 11 ~ 25 LPM (3-6 GPM) |
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최대 압력 : |
시설 물 100 PSIG,
공정 유체 압력은 온도에 의존한다 (그래프 참조) |
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테프론 피팅 : |
4 "또는 1"Flaretek, 테프론 튜브 스텁 |
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재료 : |
시설 냉각수는 양극 산화 함침 된 테프론 강화 된 6063 알루미늄 T6 알루미늄 흐르는
공정 유체는 HDPFA 테프론 튜브 만 흐른다 |
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크기 (L x 폭 x H) : |
16 "X 9.75"X 3.1 "(41 X 25 X 8cm) |
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무게 : |
38파운드 (17kg) |
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전원 요구 사항
(별도의 단위) : |
지그재그 6600 CE 또는 6600 PSTC :
입력 : 200 ~ 240VAC 3 상, 18A 최대
출력 설정 : 0-144 VDC, 0-24A |
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네오닉스 시스템은 SOLID STATE 社의 모든 제품을 취급하고 있습니다.
홈페이지에 없는 제품들은 귀사로 문의 해주세요. ☎ 052-288-6801 |
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